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产品简介
典型应用-中子散射
SHI-4T或SHI-950T系列4K制冷机可特殊设计应用于中子散射和衍射实验。这些系统带有铝（或者钒）中子区，将中子区壁厚减小，可**程度地减少中子束到达实验样品前的吸收，从而增大中子束穿过率。
SHI-4T-800中子散射用制冷机 SHI-950T中子散射用制冷机
选项包括：
●样品在真空或交换氦气中
●特殊的安装法兰匹配Goniometers
●长尾部可到达深中子阱
●大样品区使得样品到铝壁间距离尽可能**
●冷指处有4K屏蔽层
●紧凑型设计满足空间受限场合
●可更换尾部
●高温选配至800K
特殊定制的SHI-950T，用于中子散射，温度变化范围从4K到800K，请查看图纸：
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