Janis SHI-4系列4K制冷机种类齐全，可配置各种光学附件和电学接头，满足不同实验对样品冷却的要求。真空罩底部有螺纹孔，匹配安装法兰，可方便地将恒温器固定在任意方向。标准配置的制冷机系统高温可到325K，可选配高温到500K或800K。

标准型号("X"表示制冷机的制冷功率)：

¨ SHI-4-X (光学)

¨SHI-4T-X (非光学)

¨SHI-4S-X (超级紧凑)

¨SHI-4XG-X (低振动)

¨SHI-4H-X (高温)

SHI-4-X制冷机技术参数（含辐射热负载）：

标准配置的4K制冷机

SHI-4-2 SHI-4-4 SHI-4-5

SHI-4 SHI-4R SHI-4-15

其它结构

● 样品垂直/水平双向旋转的制冷机：

Janis可提供沿垂直或水平方向旋转的样品托。沿恒温器轴向可进行±360°旋转，仅受氦气管线和电缆的限制，精度约0.5°；沿水平方向可进行±90°旋转，精度<0.2°。系统配有四个冷窗，*低温度可达~4K，是需要对样品进行精确光学准直实验的理想选择。

●SHI-4-15-UHV系统：

图示为RDK-415D2B冷头，配有固定的8”CF法兰，二级冷台上装有温度传感器和两个筒状加热器。该系统为高真空环境而设计，可直接固定在用户提供的UHV腔上，但并非真正的UHV系统，其烘烤温度只能达到60℃。

●特殊型SHI-4XG-15-UHV系统：

SHI-4XG-15-UHV系统为真正的超高真空（UHV）系统，在交换气体减振的情况下可烘烤至500K，可用于扫描探针显微镜测试。该系统配有特殊的防热辐射冷窗，*低温度可达3K。

●特殊型1.5W制冷机系统用于冷却氢气：

SHI-4-15制冷机，配有CF法兰，一级冷台和二级冷台上分别装有热交换器用于冷却氢气。该系统将直接安装在用户已有的真空腔上，与氢气入口和出口管线相连。

●高温型4K制冷机：

该系统高温可达500K，采用RDK-101D冷头。

●带冷窗的4K制冷机：

配有光学冷窗的情况下，制冷功率为1.5W@4.2K的制冷机系统*低温度可达3K。

●SHI-4R-1基质隔离系统：