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Janis 4K闭循环制冷机(样品置于真空中)
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美国
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产品简介

Janis SHI-4系列4K制冷机种类齐全,可配置各种光学附件和电学接头,满足不同实验对样品冷却的要求。真空罩底部有螺纹孔,匹配安装法兰,可方便地将恒温器固定在任意方向。标准配置的制冷机系统高温可到325K,可选配高温到500K或800K

标准型号("X"表示制冷机的制冷功率)

¨ SHI-4-X (光学)

¨SHI-4T-X (非光学)

¨SHI-4S-X (超级紧凑)

¨SHI-4XG-X (低振动)

¨SHI-4H-X (高温)

标准配置

可选配置

●光学型真空罩和防热辐射屏

BNC、SMA或多针电学接头

4个O-ring密封石英窗

增加第五个窗口

镀金无氧铜OFHC样品托

旋转真空罩

抽真空阀和安全阀

旋转台和定位台

10针电学真空接头

基质隔离结构

三个备用电学引入端口

防热辐射窗

硅二极管温度计和加热器

●红外或其他窗材

O-ring密封的真空外罩,方便装卸

紧凑型或其他定制型真空罩

非光学型结构

选配500K或800K高温

SHI-4-X制冷机技术参数(含辐射热负载):

技术参数

SHI-4-2

SHI-4-5

SHI-4

SHI-4-15

温度范围

<4.2K to 325K

<4.5K to 325K

<4K to 325K

<4K to 325K

初始降温时间

120mins to 5K

90mins 到4.5K

60mins 到4K

60mins 到4K

冷头制冷功率

0.2W @ 4.2K

0.5 W @ 4.2K

1 W @ 4.2K

1.5 W @ 4.2K

恒温器质量

36lbs.

53lbs.

62lbs.

63lbs.

压缩机冷却方式

风冷或水冷

水冷

风冷或水冷

风冷或水冷

*防热辐射屏上带四个开口(大多数型号可选配500K或800K高温系统)

标准配置的4K制冷机

SHI-4-2 SHI-4-4 SHI-4-5

SHI-4 SHI-4R SHI-4-15

其它结构

样品垂直/水平双向旋转的制冷机:

Janis可提供沿垂直或水平方向旋转的样品托。沿恒温器轴向可进行±360°旋转,仅受氦气管线和电缆的限制,精度约0.5°;沿水平方向可进行±90°旋转,精度<0.2°。系统配有四个冷窗,*低温度可达~4K,是需要对样品进行精确光学准直实验的理想选择

SHI-4-15-UHV系统:

图示为RDK-415D2B冷头,配有固定的8”CF法兰,二级冷台上装有温度传感器和两个筒状加热器。该系统为高真空环境而设计,可直接固定在用户提供的UHV腔上,但并非真正的UHV系统,其烘烤温度只能达到60℃。

特殊型SHI-4XG-15-UHV系统:

SHI-4XG-15-UHV系统为真正的超高真空(UHV)系统,在交换气体减振的情况下可烘烤至500K,可用于扫描探针显微镜测试。该系统配有特殊的防热辐射冷窗,*低温度可达3K。

特殊型1.5W制冷机系统用于冷却氢气:

SHI-4-15制冷机,配有CF法兰,一级冷台和二级冷台上分别装有热交换器用于冷却氢气。该系统将直接安装在用户已有的真空腔上,与氢气入口和出口管线相连

高温型4K制冷机:

该系统高温可达500K,采用RDK-101D冷头。

带冷窗的4K制冷机:

配有光学冷窗的情况下,制冷功率为1.5W@4.2K的制冷机系统*低温度可达3K。

SHI-4R-1基质隔离系统:

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